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屆時將呈現先進的半導體設備腔體清潔、涂層和測試能力
賓夕法尼亞州夸克敦2017年3月8日電 /美通社/ -- QuantumClean和ChemTrace將在3月14日至16日于上海新國際博覽中心舉行的SEMICON China（2017國際半導體設備、材料、制造和服務展覽暨研討會）上設展（展位號為5776）。QuantumClean依托領先的技術、資源和專長，在10納米以下高純度半導體零件清潔市場的前沿開展經營活動，致力于生產Atomically Clean Surfaces?制程腔體零件。ChemTrace則是行業領先的半導體實驗室，致力于為客戶提供有關其微污染問題的重要見解。
Quantum Global Technologies, LLC首席運營官兼首席技術官大衛-扎克(David Zuck)表示：“半導體行業對更加清潔的制程腔體零件和更加嚴格的控制的需求繼續加緊。2000年，QuantumClean制定了其首個技術路線圖——預測這些相關趨勢并確定可以滿足該行業日益發展的需求的解決方案。在接下來的時間里，QuantumClean的研發和工程團隊為解決該行業最具挑戰的零件清潔與涂層相關問題，不斷帶來創新型解決方案，在競爭中占得先機。我們期待在SEMICON China 2017設展期間，與半導體原始設備制造商(OEM)和廠商分享我們的能力。”
20多年來，ChemTrace在晶圓與沉積、高純度化學品、清洗室材料、去離子(DI)水和空氣分子污染方面，為半導體客戶提供無與倫比的微污染分析服務。此外，ChemTrace還在制程工藝工具腔體清潔效率方面，為對清潔度具有嚴格要求的眾多領先半導體廠商、原始設備制造商和原始配件制造商(OPM)客戶提供獨立的分析驗證服務。
ChemTrace銷售總監Surjany Russell對此解釋說：“由于關注為客戶帶來微污染意識和服務，我們成為了全球主要晶圓代工廠(FAB)和原始設備制造商的成功合作伙伴。我們使合作伙伴能在現有重要材料與流程方面具備基礎的清潔能力。我們由此成為客戶向下一階段清潔水平發展的平臺。這就是ChemTrace的價值所在。”
Russell女士在總結時表示：“我們的全球業務在持續拓展，例如近期在臺灣臺南建立一流的實驗室，這使半導體行業的地區客戶能直接利用我們的先進實驗室，進行快速周轉和專業分析。”
我們誠邀各界人士在SEMICON China 2017參觀QuantumClean®與ChemTrace®展位，從而了解有關我們的服務如何幫助應對關鍵制程腔體制造挑戰的詳情。
